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超微粒子與固態平板表面界面電位的革新應用

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隨著PH質改變,評價界面電位與粒子分散性的變化與相對關係。

台北訊

隨著奈米科技日新月異,相較於使用電子顯微鏡來觀察量測超微粒子,如今動態光散射(DLS)技術純熟,已達到可快速準確量測的效能,且更能夠巨觀得知所測樣品內粒子的粒徑分布。

近年來,DLS技術已廣泛用於各產業界,包含半導體、製藥、化工、醫材、光學、食品與化妝品等。尤其DLS可進一步結合粒子表面界面電位(Zeta potential)量測功能,測得粒子表面電荷、吸附性質等相關訊息,進而得知粒子間甚至粒子與固態表面之間的相互關聯性,這對於各產業的材料研發與製程品管,是非常重要且可靠的技術。

辛耘企業(證交所股票代號:3538)有感於此,特別與日本大塚科技(Otsuka Tech Electronics)合作,推廣最新利用DLS原理的奈米粒徑量測系統ELSZ-2000。

系統含有高功率低耗損之半導體雷射與高感度APD,最低只需20ul樣品量,高相容偵測濃度0.1ppm∼40%,可量測0.6∼10,000nm寬廣範圍的粒徑大小與分布情況。再結合雷射都普勒原理(Laser Doppler),可同時在系統中量測出粒子表面界面電位。

值得一提的是,ELSZ-2000特有的平板狀固態表面界面電位模組可進行薄膜、纖維、基板、玻璃、紙張等測量。相較以往採用粒子的電位測量,此平板模組在研發技術與市場上皆可說是創新的突破。對於表面改質的條件開發與製程品管,利用電荷同性相斥、異性相吸原理,運用於塗佈、研磨、清潔、吸附、微流道等應用研究,皆可產生相當有效的助益。

更進一步,除了奈米粒子,辛耘不忘微米粒子在材料相關研究應用上,始終扮演重要角色。特別與德國FRITSCH原廠合作,引進最新雷射粒徑分析儀-ANALYSETTE 22。

設備搭載雙波長雷射光,分別使用於大、小粒子的粒徑量測。另有FRITSCH特殊專利技術,利用特製載台帶動二束雷射光對於分析樣品切換移動,自動完成最佳對焦,快速準確地獲得0.01∼2,100um超大範圍粒徑與分布,補強對於微米等級粒子的分析。

辛耘企業資深副總謝孟嚴表示:「奈米材料研發應用的蓬勃發展是全球趨勢,辛耘引進國外各式最新技術與設備,已有近40年的商業經驗。這次特別和日本大塚科技還有德國FRITSCH原廠合作,希望能夠成為台灣相關應用業者的最佳夥伴。」

這些年,奈米科技所產生的新材料、新應用、新裝置,正廣泛地創造多項產業與技術革命的新風潮。美國、德國、日本等先進國家,長年來多方地運用粒徑分析儀,使得對於超微粒子的研究更加精進。近年來,台灣產學界也急起直追,積極地投入各項奈米科技相關研究與應用,相信未來在此全球產業鏈上必可佔有一席之地。