超微粒子與固態平板表面界面電位的革新應用

隨著PH質改變，評價界面電位與粒子分散性的變化與相對關係。

隨著奈米科技日新月異，相較於使用電子顯微鏡來觀察量測超微粒子，如今動態光散射(DLS)技術純熟，已達到可快速準確量測的效能，且更能夠巨觀得知所測樣品內粒子的粒徑分布。

近年來，DLS技術已廣泛用於各產業界，包含半導體、製藥、化工、醫材、光學、食品與化妝品等。尤其DLS可進一步結合粒子表面界面電位(Zeta potential)量測功能，測得粒子表面電荷、吸附性質等相關訊息，進而得知粒子間甚至粒子與固態表面之間的相互關聯性，這對於各產業的材料研發與製程品管，是非常重要且可靠的技術。

辛耘企業(證交所股票代號：3538)有感於此，特別與日本大塚科技(Otsuka Tech Electronics)合作，推廣最新利用DLS原理的奈米粒徑量測系統ELSZ-2000。

系統含有高功率低耗損之半導體雷射與高感度APD，最低只需20ul樣品量，高相容偵測濃度0.1ppm？40%，可量測0.6？10,000nm寬廣範圍的粒徑大小與分布情況。再結合雷射都普勒原理(Laser Doppler)，可同時在系統中量測出粒子表面界面電位。

值得一提的是，ELSZ-2000特有的平板狀固態表面界面電位模組可進行薄膜、纖維、基板、玻璃、紙張等測量。相較以往採用粒子的電位測量，此平板模組在研發技術與市場上皆可說是創新的突破。對於表面改質的條件開發與製程品管，利用電荷同性相斥、異性相吸原理，運用於塗佈、研磨、清潔、吸附、微流道等應用研究，皆可產生相當有效的助益。

更進一步，除了奈米粒子，辛耘不忘微米粒子在材料相關研究應用上，始終扮演重要角色。特別與德國FRITSCH原廠合作，引進最新雷射粒徑分析儀-ANALYSETTE 22。

設備搭載雙波長雷射光，分別使用於大、小粒子的粒徑量測。另有FRITSCH特殊專利技術，利用特製載台帶動二束雷射光對於分析樣品切換移動，自動完成最佳對焦，快速準確地獲得0.01？2,100um超大範圍粒徑與分布，補強對於微米等級粒子的分析。

辛耘企業資深副總謝孟嚴表示：「奈米材料研發應用的蓬勃發展是全球趨勢，辛耘引進國外各式最新技術與設備，已有近40年的商業經驗。這次特別和日本大塚科技還有德國FRITSCH原廠合作，希望能夠成為台灣相關應用業者的最佳夥伴。」

這些年，奈米科技所產生的新材料、新應用、新裝置，正廣泛地創造多項產業與技術革命的新風潮。美國、德國、日本等先進國家，長年來多方地運用粒徑分析儀，使得對於超微粒子的研究更加精進。近年來，台灣產學界也急起直追，積極地投入各項奈米科技相關研究與應用，相信未來在此全球產業鏈上必可佔有一席之地。