DRAM製程進入EUV時代 三星擴增設備拉開技術差距
- 鄒佩芳／綜合報導
隨著半導體製程不斷推進，相關業者積極確保極紫外光(EUV)曝光設備，競爭益趨激烈。2021年三星電子(Samsung Electronics)將增加DRAM製程上使用的EUV設備，擴大在...責任編輯：朱原弘
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