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ASML完成EUV光罩護膜技術 交由三井化學量產

  • 江仁傑綜合報導

全球唯一極紫外光(EUV)半導體微影設備製造商ASML,已研發出EUV製程使用的光罩護膜(Pellicle)製造技術,可提升EUV製程的生產速度並降低生產成本,並在2021年5月...

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