ASML完成EUV光罩護膜技術 交由三井化學量產
- 江仁傑／綜合報導
全球唯一極紫外光(EUV)半導體微影設備製造商ASML，已研發出EUV製程使用的光罩護膜(Pellicle)製造技術，可提升EUV製程的生產速度並降低生產成本，並在2021年5月交由日廠三井化學(Mitsui Chemicals)進行量產。
會員登入
會員服務申請/試用
申請專線：
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
關鍵字
