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創意電子晶粒間D2D 開創旗艦級SoC新時代

  • 周建勳台北

GLink評估板和InFO_oS工程樣片。
GLink評估板和InFO_oS工程樣片。

先進ASIC領導廠商創意電子(GUC)發布其成功演示矽驗證的GLink介面,該介面使用台積電 7奈米製程和InFO_oS先進的封裝技術,為人工智慧、高性能計算和網路等應用做多晶片集成,實現系統擴展。

採用基於InFO_oS的GLink是因為InFO_oS具有模組化、可擴展和高良率多晶片ASIC的成本效益。而基於CoWoS的GLink被客戶採用,則是用於帶有HBM記憶體的多晶片ASIC。高吞吐量互連GLink的小面積/低功耗特性,使高效的多晶片InFO_oS和高達2,500平方毫米的CoWoS解決方案成為可能。

實驗證明,每1毫米的邊界線,全雙工通信量為0.7 Tbps,僅消耗0.25 pJ /bit(每1Tbps的全雙工通信量為0.25瓦特),且晶片之間的通信無差錯。在所有製程-電壓-溫度測試條件,測試結果與矽前模擬數據完全一致。早期採用的客戶已得到詳細的測試報告。

GLink的功耗比通過封裝基板進行超短距離SerDes通信的替代解決方案低6到10倍。對於每10 Tbps的全雙工通信量,它的功耗比其他基於SerDes的介面少15到20瓦特。GLink IP佔用的晶片面積僅需1/3,它同時支持InFO_oS和CoWoS先進封裝。

下一代GLink IP支持每1毫米邊界線1.3 Tbps的無誤碼全雙工通信量,具有相同的0.25 pJ/bit功耗,已經提供客戶可以在台積電5奈米製程上使用。之後一代的GLink使用台積電5奈米和3奈米製程,支持2.7Tbps/mm無誤碼全雙工通信量,功耗同樣為0.25pj/bit,將於2021推出。每條邊界線有如此低的功耗/面積和高效率的流量,使GLink IP成為人工智慧、高性能計算和網路應用的完美選擇。

創意電子總經理陳超乾博士表示:「創意電子擁有完整且業界領先的、經過矽驗證的HBM2E/3實體層/控制器、GLink、CoWoS和InFO_oS專業技術、封裝設計、電氣和熱模擬、DFT和生產測試,使我們的ASIC客戶能夠縮短設計週期並且快速進入量產。我們的人工智慧、高性能計算機和網路客戶對GLink的強勁需求,支持我們致力於構建廣泛的IP產品組合,並深化創意電子專注於先進封裝革命的設計專業知識。」

創意電子CTO Igor Elkanovich表示:「我們累積了多年HBM實體層和控制器的專業技術,重新定義了這款高數據流量密度、低功耗、低延遲、無誤碼的GLink介面。我們致力於保持相同功率和延遲的同時,每年將GLink數據流量密度提高一倍。從2021年開始,我們將用GLink-3D來補充HBM3和GLink,使用台積電3D Fabric技術帶來更高的數據流量密度、更低的延遲和更低的功耗。」