ASML與佳能、尼康的曝光裝置競爭
- 范仁志／綜合報導
佳能(Canon)決定採用奈米壓印(NIL)技術，背景源自全球半導體曝光(Photolithography)裝置廠商競爭，以及佳能在ArF浸潤裝置的落後。
自尼康(Nikon)在1980年推出曝光裝置後，以尼康及佳能為首的日本曝光裝置業者，...
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議題精選－東芝奈米壓印技術
