三星擱置High-NA EUV技術 恐落後英特爾2~3年
- 江承諭／綜合報導
英特爾（Intel）日前完成業界首台High-NA極紫外光（EUV）曝光設備組裝，宣布最快2025年起導入1奈米級半導體生產。南韓業界認為以三星電子（Samsung Electronics）當前規畫，若英特爾量產計畫如期進行，High-NA EUV使用恐出現2...
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