360°Research：深刻電鑄模造

深刻電鑄模造(LIGA)為德文Lithographie GalVanoformung Abformung的縮寫，譯成英文則是Lithography Electroforming Micro Molding，中文又稱為X光顯影。深刻電鑄模造是使用X光曝光，再將曝光部分蝕刻去除，利用鑄模方式製作出金屬元件，簡單的說，深刻電鑄模造的目的就是利用LIGA技術來製作模型，以便大量生產。

LIGA的發展主要是因MEMS結構中，為加強結構強度或增加元件電致動性或磁致動性，結構必須朝高寬深、較複雜的3D形發展，而LIGA技術可滿足該方面要求。LIGA製程主要應用在高精度定位結構元件，如微型馬達、導波元件、微反應器、光電感測器等。