先進微影技術發展(一)：既有設備路徑的延伸
- 林育中／專欄
微影技術是半導體產業用以定義精細圖案的主流手段，目前最先進的技術是極紫外光（EUV），最近的量產設備為ASML 的TWINSCAN NXE：3600D。使用的光源是由二氧化碳雷射打到錫（tin；Sn）電漿（plasma）後，產生13.5 nm的極紫外光。
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