三星High NA EUV移機 有意反攻2奈米市場？
- 范維君／綜合報導
三星電子（Samsung Electronics）傳日前已將高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）微影設備，移入三星華城事業園區，這款設備是實現2奈米製程所需的關鍵設備，顯示三星正積極提升2奈米以下製程的完成度，有意積極吸引大型客戶青睞。...
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