Veeco台灣技術中心8月31日隆重開幕 協助LED客戶更快導入高效率與低成本量產階段 智慧應用 影音
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Veeco台灣技術中心8月31日隆重開幕 協助LED客戶更快導入高效率與低成本量產階段

  • 張琳一

Veeco「台灣技術中心」(Taiwan Technology Center;TTC)。
Veeco「台灣技術中心」(Taiwan Technology Center;TTC)。

受惠於LED產業近兩年景氣暢旺,龐大的市場需求也帶動了LED上游業者的投資熱潮。為了更貼近台灣LED上游磊晶產業,提供更為即時的服務與產品開發的支援,有機金屬化學氣相沉積機台(MOCVD)設備大廠Veeco Instruments特別在新竹科學園區成立「台灣技術中心」(Taiwan Technology Center;TTC),並訂於今(31)日舉行開幕典禮。

由於看好大中華區及亞洲在LED產業發展前景,並持續協助客戶加快為消費性裝置與固態照明採用LED的腳步,Veeco繼今(2011)年5月在大陸成立「上海訓練中心」(CTC)之後,再度在台灣新竹成立「台灣技術中心」;同時Veeco亦計劃於2012年初,在南韓首爾成立研發、展示與製程支援中心。

「台灣技術中心」的功能包括:向客戶展示製程;安排快速投產計畫(Rapid Start Program),以便移轉及鑑定客戶的LED配方;讓客戶及早評估系統升級;支援聯合技術開發計畫;提供客戶訓練等。Veeco表示,「台灣技術中心」將有助於客戶更快導入高效率與低成本LED的量產階段,客戶不再需要長途跋涉至美國,即可獲得Veeco最新的系統與技術支援,以及更為快速的回應速度。

Veeco目前設有兩大事業部,其中LED與太陽能製程設備事業部,主要提供LED與CPV太陽能電池用的有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD),以及分子束磊晶(MBE)產品。此外,Veeco亦為薄膜磁頭生產設備的供應商,提供領先設備給硬碟(HDD)製造商,包括:離子束蝕刻(IBE)、離子束沉積(IBD)、物理氣相沉積(PVD)、研磨(Lapping)及切割(Dicing)設備。

Veeco在薄膜沉積上擁有20多年的經驗,以及150多項獨家專利。Veeco繼2010年推出MOCVD機台K465i,獲得業界高度認同與熱賣之後,2011年再度發表最新一代的TurboDisc MaxBright氮化鎵(GaN) MOCVD機台MaxBright,其生產效益可達K465i的5倍之多,是目前業界生產效率最高(highest productivity)、機台擁有成本最低(lowest cost of ownership)的MOCVD機台。

目前Veeco在LED領域擁有全球最頂尖的客戶,包括:Epistar(晶電)、Genesis Photonics(新世紀光電)、Tekcore(泰谷)、Arima(華上)、LG Innotek、Seoul Optoelectronics、Samsung LED、Philips Lumileds、OSRAM、Sanan、Elec-Tech、Sharp、Toshiba…等。在2010年,Veeco已成功將MOCVD技術應用於全球40多家客戶的製程中。

全球LED照明市場的CAGR預計在未來5年將成長68%,其中戶外與住宅的需求將扮演領頭羊的角色,接著才是商業與工業上的需求。Veeco認為,市場滲透率將因各種不同的因素急速上升,包括歐洲與美國禁用電燈泡的立法、日本促進採用LED、南韓與台灣領導廠商已導入15美金價格帶的照明產品、大陸逐漸成為主要的LED業者,以及快速滑落的LED價格等等,而台灣無疑地將成為全球LED主要生產重鎮之一。