日本EUV曝光新技術 耗能與成本可望大降
- 江仁傑／綜合報導
沖繩科學技術大學院大學（OIST）研發可讓極紫外光（EUV）曝光機的耗電與製造成本大幅下降的新技術。今後目標與廠商合作，運用這項新技術製出日本製的曝光機，打破由荷蘭廠商ASML獨家供應的局面。據日經新聞（Nikkei）、Mynav...
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