改善製程成本 默克推出全新環保光阻去除劑
- 陳玉娟／台北
半導體材料大廠默克(Merck)正式宣布推出用於微影製程的全新系列環保化學品「AZ Remover 880」，此光阻去除劑採用全新配方、非基於會危害環境的NMP化學品系列中的第一款產品，可滿足5G和先進晶圓級封裝製程技術的需求，並克服掀離(lift-off)製程中...
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