中國業者希望落空？ ASML：不會推「特供版」設備
- 謝生輝／台北
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荷蘭政府發布深紫外光（DUV）及更先進的半導體微影設備出口管制新規，將於9月1日正式實施；恐影響中國業者先前下訂數十台微影設備交機；長遠而言，中國半導體業者將加速設備自主進程，尤其是微影核心設備及零組件國產替代化的腳步。
中國業者對於此次新規進行「沙盤推演」，至少有三套「劇本」。第一，荷蘭與美國同步禁止14奈米以下微影設備（28奈米可供）；第二，荷蘭仿效日本禁止所有浸沒式微影設備（45奈米以下禁止）；第三，45奈米以下微影設備須需提出申請，經過審批決定是否輸出。
這三套「劇本」經過推演，如今結果出爐：9月起，ASML需要向荷蘭政府申請其最先進的浸沒式DUV微影系統（TWINSCAN NXT:2000i和後續浸沒式系統）所有裝運出口許可證。
但業者認為，通過審核的機率極低，但其他機種則不受限，如先前中國邏輯與記憶體晶圓廠已大量下訂的ASML 1980Di DUV微影設備。
據ASML官網資料，1980Di最大解析度可實現38奈米，小於荷蘭政府規定的45奈米，但其DCO指標為最大1.6奈米，不滿足法規中小於等於1.5奈米的要求，因此該機種目前未受限。
ASML 1980Di DUV設備適用於10~16奈米製程，通過多重曝光可實現7奈米製程。比照台積電製程進度，N7節點於2018年4月正式量產，就是使用ASML 2016年發布的1980Di採用DUV製程。
儘管1980系列機台「理論上」不受限制，可通過多重曝光技術仍能下探至7奈米，但「實際上」美國2022年要求限制14奈米以下設備，由於荷蘭的微影設備中包含美國零組件，因此美法規也適用於荷蘭。
未來ASML 1980系列微影設備可能「改版」，使其相關性能不能越過14奈米，不排除有出貨給中國客戶生產28奈米製程所用「特供版」之可能。
關鍵是9月新規實施後，會否影響這數十台微影設備交機？中國邏輯與記憶體晶圓廠粗估，尚未交機近數十台，交機時間落在2024年後。如果後續「特供版」設備仍能順利交機，對中國業者來說或可暫鬆口氣。
本文刊出後，ASML來函回應：將遵守所有適用的法律和法規，不會專門為中國設計系統，也不會進一步回應市場謠言和與猜測。
目前中國28奈米設備國產化比率大約已提升至30%，具備微影設備生產能力的主力是上海微電子設備有限公司，SSX600系列可製作90奈米、110奈米、280奈米微影製程。
未來一、兩年或許在產業端仍有待驗證，但若禁令持續進逼，很可能加速中國業者投產的規劃進程。此外，還有許多中國零組件業者也投入微影設備技術，包括物鏡、光源或浸液系統等。長期看來，微影設備很可能成為中國本土設備真正的轉折點。
此外，受荷蘭禁令限制的原子層沉積系統（ALD）設備，還有ASMI出口中國金屬沈積ALD設備，和部分用於矽/鍺矽/碳摻雜鍺矽外延生長的設備。對未來中國替代類設備業者如北方華創、拓荊科技、微導納米、中微則是長期利好消息。
責任編輯：朱原弘
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加入ASML來函回應：不會針對中國市場推「特供版」微影設備。 (2023/07/06 16:45)
