汎銓科技全面展開技術研發　強化材料分析競爭力

汎銓科技董事長柳紀綸(左)與副總經理周學良(右)都指出，汎銓科技的材料分析技術，向來居於產業領先地位。DIGITIMES攝

近年來全球半導體產業戰況激烈，台灣與南韓在先進製程持續交鋒，製程技術將從5奈米走進3奈米，半導體先進製程考驗的不僅是廠商、產業的技術實力，更是國家之間的角力，面對此一趨勢，汎銓科技董事長柳紀綸表示，台灣在半導體領域的專業分工精細，各環節的技術實力位居全球產業領先地位，對於這場競賽，他十分有信心。

汎銓科技是台灣乃至於全球半導體產業中，少數聚焦於材料分析(MA)的專業廠商，多年來積極培育專業人才，深化技術實力，在MA領域中已臻產業領先地位，對於半導體廠將進入3奈米製程，也已備妥相關技術。

汎銓科技副總經理周學良指出，5奈米與3奈米半導體的材料分析挑戰在於樣品的製備，半導體製程所用到的EUV光阻、Low-K等關鍵材料，由於受限於材料天性，在使用電子顯微鏡觀察其微結構與成分時，容易因電子束的照射，導致試片變形、倒塌，造成製程研發人員的誤判。

周學良表示，在半導體材料分析中，保持樣品原貌，避免因人為因素造成缺陷在每一代製程微縮研發過程中的必要工作，只是在5奈米乃至於3奈米製程中，樣品的體積更薄，因此也更容易變形。為解決此一問題，汎銓科技早在數年前就開發出ALD真空鍍膜技術，以真空鍍膜在樣品外層形成保護，就像為其穿上一層盔甲，避免因電子束的照射而產生變形。

ALD真空鍍膜技術是由汎銓科技獨力研發，目前也是市場唯一能完全保護樣品不變形的技術。柳紀綸指出，由於半導體製程走在業界尖端，多數設備廠商的技術難以跟上，因此許多設備都必須自行研發，在材料分析領域也遇到一樣的狀況。

當初汎銓科技提出真空鍍膜構想時，市面上的廠商仍無足夠技術滿足要求，因此汎銓科技只能自己來，透過之前培養的專業人才與技術累積，ALD真空鍍膜設備成功問世，柳紀綸透露之後有廠商前來洽詢，希望與汎銓科技合作生產，不過柳紀綸還是決定保留技術。現在ALD真空鍍膜已被汎銓廣泛使用於MA、FA等多項分析，近年來需求增加，汎銓科技也持續提供此服務以滿足客戶的需求。

半導體是知識密集產業，對專業的需求極高，要提供完善服務，除了具備尖端設備，專業人才更是關鍵，尤其是半導體產能快速放大，人才的數量也必須同等增加。汎銓科技從成立以來，不但積極培養人才，還透過人性化管理與完善制度留住人才，藉此建立起充足且具高度專業的人才庫。

完整人才庫在近年來日益激烈的半導體產業起了關鍵因素，柳紀綸以製程研發為例，半導體的材料分析必須走在製程研發之前，才能在客戶進行研發之際，提供對應的技術支援，然而既然技術尚未開始，要如何比客戶先走一步？這就是人才庫的最大價值。

柳紀綸指出，客戶的技術研發之前，學術界都早有各種研究，汎銓科技的專業人才不但必須熟知半導體產業，還必須將觸角延伸到學術界，了解目前有關的學術理論作法與進度，再從中找出客戶最有可能選擇的技術，先行投入研發，在客戶決定採用時，汎銓科技已然備妥相關解決方案。

當然技術選擇不可能百發百中，客戶選擇之外者，汎銓科技將之視為技術能量的累積，未來延伸出其他價值的機會仍然相當大，透過此一累積，汎銓科技的競爭力也越來越厚實。

對於未來發展，汎銓科技從今年開始積極踏出腳步，除了之前已有的新竹材料分析本部與南科分公司外，南京與同樣位於新竹的兩處據點也都開始營運，其中位於公道五路二段的新營運點也將提供FA與SA兩大服務。南京子公司營運方式會持續現在中央廚房管控的精神，讓各外站的品質及服務皆與總部一致，並會繼續開拓更多海外分析的業務及客群。

至於服務項目方面，由於客戶端的需求浮現，汎銓科技2019年也將開始表面分析SIMS服務，並強化故障分析的能量，購入先進封裝分析設備，提供客戶完整的分析服務，以因應日益激烈的市場競爭。汎銓科技將於半導體展展出(攤位號碼：I2228)，歡迎到場互動交流。