Aerotech於2019半導體展展出高精度運動控制平台與系統

Aerotech於2019半導體展展出高精度運動控制平台與系統

由於半導體產業對於製程極限的推展，從前段製程至後段封測，設備商無不專心致力於提升半導體製程設備之效能與產能。本次半導體展中，Aerotech展出四大主軸：第一為光通訊運動控制技術，第二為氣浮軸承移動平台與自動對焦演算法，第三為超精密XY平台搭配3D量測模組，最後為壓電奈米移動平台。四大主軸的核心，在於Aerotech針對製程設備開發的精度推展，以及產能需求。

Aerotech為半導體製程用運動系統供應商，其運動控制與定位平台系統可被用於各道製程應用上，包含晶圓檢測，瑕疵檢測與偵測，白光干涉，先進封裝，與各式各樣先進製程應用上。

於最嚴苛的半導體製程如微影製程中，通常晶圓平台具有最極端的規格需求。Aerotech的ABL1500氣浮軸承定位平台在半導體製程中被廣泛使用，尤其需要極高平面度與極高動態精度的需求時，其特性會有助於製程良率改善。本次半導體展中，Aerotech更將此平台與高精度雷射位移計整合，進行自動對焦演算法的展示。

在許多精密量測與白光干涉，與其他3D量測的應用中，精密的XY平台並且具備2D定位精度的需求相當廣泛，Aerotech的Planar_DL系列是在這些量測應用中常被使用到的精密XY平台，具有精密幾何效能和微米級直線度的開孔式平台。Planar_DL平台包括高精度交叉滾柱軸承、精密加工表面，和通過剛性中心軸線驅動的非接觸式線性馬達。這些特點使其直線度達到±0.4µm，平面度達到±1µm，適用於各種精密量測製程。

製程微縮化是半導體產業永不停歇的目標，摩爾定律推展的特徵尺寸如今已經低於5nm節點，設備商對於如何製作出微縮化的電路，如何檢測這些電路與特徵，並且如何封裝這些晶圓，其面臨的挑戰遠高於往年。壓電平台在製程微縮化中扮演重要角色，其微動，高精度等特性，可以協助製程設備能夠檢測出較於以往更微小的特徵尺寸。

Aerotech全新系列的QNP-XY壓電奈米定位平台，能提供最高的共振頻率和剛性；高達解析度0.15nm、線性度0.007%、及高重複性2 nm，可符合最嚴峻的應用要求，從顯微鏡術到光學校準；其行程範圍為從100µm到600µm。搭配Aerotech的Q系列控制器與驅動器使用時，該系列平台表現出次奈米定位解析度和定位穩定性，甚至可以同步控制伺符與壓電平台，達到提升製程良率的目標。

Aerotech於本屆台北國際半導體展中，將展出各式先進運動控制平台系統，提供台灣半導體業者與設備業者最新的技術資訊，屆時將有應用工程師現場說明這些設備之特性，並可商討個別專案細節。Aerotech於半導體展之攤位號碼為：N0580。