SMEE 300系列光刻機 進軍LED產業
致力於投影光刻機研發、生產、銷售與服務的上海微電子裝備有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment;SMEE),日前來台參加半導體展,展出用於封裝以及LED產業光刻機設備。
此次半導體展,上海微電子裝備有限公司展出SSB500系列步進投影光刻機,基於先進的步進光刻機平臺技術,提供覆蓋IC後道封裝、MEMS/NEMS製造的步進投影光刻機。該系列光刻機採用ghi線的高功率汞燈作為曝光光源,其先進的逐場調焦調平技術對薄膠和厚膠工藝,以及3D-TSV結構等具有良好的自動適應性,並通過採用自主專利的圖像智慧識別技術,無需專門設計特殊對準標記。該系列設備具有高解析度、高套刻精度和高生產率等一系列優點,可滿足使用者對設備高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生產需求。
另外,也展出SSB300系列步進投影光刻機,該系列機台適用於2~6英吋基底LED的PSS和電極的光刻工藝。可以應對大翹曲藍寶石基底的曝光,能夠實現2~6英吋基底的自動切換,能夠在生產中即時監測基底面型,保證客戶在使用過程中不再受吸盤污染的困擾。採用高性能縮減式物鏡確保亞微米解析度和高曝光均勻性、精密特製運動台系統實現高精度的圖形拼接與精確的套刻。具有低使用成本、高曝光均勻性、高產能等特點,可滿足LED生產線的各種使用要求。除此之外,該系列機台還能夠適應矽和SiC等多種基底的曝光、可選背面對準配置,將機台的應用擴展至MEMS領域。
上海微電子裝備有限公司成立於2002年,公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、3D-TSV、TFT-OLED、LED、Power Devices等製造領域。上海微電子裝備有限公司致力於以極致服務、創造高端產品、創造客戶卓越價值,全方位為顧客提供優質產品和技術服務。
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