SEMICON Taiwan 2010展會 790號攤位：GORE過濾芯重新定義過濾技術性能

UPW過濾芯

9月 8-10日在台北世貿中心舉行的SEMICON Taiwan 2010半導體設備暨材料展第790號展位上，W. L. Gore & Associates, Inc.(美商戈爾公司)的新式過濾芯將閃亮登場。不論是半導體與矽晶片製造使用的超純水(UPW)和去離子(DI)水過濾，還是半導體製造和其他微電子製造工藝中的高純度化學品過濾，戈爾過濾芯均能顯著改善工藝性能、降低過濾總成本。

戈爾利用自主研發的膨體聚四氟乙烯(ePTFE)材料及薄膜技術，開發了一系列性能出眾的過濾芯，可針對半導體和矽晶片製造使用的超純水(UPW)和去離子(DI)水大幅降低過濾總成本、改善水質並提供上游系統波動防護。戈爾過濾芯的通量是目前市場上同等孔徑濾芯的三倍，且保持顆粒過濾精度不變，可以輕鬆取代原有過濾芯，在許多應用領域中都是昂貴之超濾(UF)模組的經濟型替代方案。

對半導體製造和其他微電子製造工藝使用的高純度化學品而言，如高粘度液體、酸、鹼、溶劑和專用化學品等，使用GORE過濾芯可顯著改善產品品質、提高產能並降低過濾總成本。

有關超純水(UPW)、去離子(DI)水和高純度化學處理領域的戈爾過濾芯系列新產品及更多資訊，敬請參觀SEMICON Taiwan 2010展會或登錄公司網站www.gore.com/semiconchina 獲取。W.L Gore & Associates，790號展位。

SEMICON Taiwan 2010展會聯繫人：楊錚芸(02)8771-7799