搶入High-NA EUV曝光機 英特爾此局是對是錯？
- 梁燕蕙／綜合報導
英特爾（Intel）日前高調宣布已在美國奧勒岡州研發晶圓廠，收到ASML第一批出貨的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）曝光機EXE:5000系列，預計很快就會開始組裝下一代微影設備，用於製程開發。預計英特爾可能將在2月...
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