Rapidus拼2025年4月試產2奈米 內部人士憂太倉促
- 江仁傑／綜合報導
Rapidus已在2024年12月開始從ASML引進極紫外光（EUV）曝光機，並預計2025年4月試產2奈米晶片。Rapidus社長表示，Rapidus的建廠與試產時間表，完全按預定計畫進行中。不過日經新聞（Nikkei）報導，20...
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