應材挑戰半導體光罩日廠寡佔 南韓EUV材料難擺脫日本進口
- 杜振宇／綜合報導
全球最大半導體設備商應用材料(Applied Materials)正加速開發極紫外光(EUV)製程用空白光罩(blank mask)，挑戰現階段日廠寡佔半導體用光罩市場的局面。相較之下，南韓於EUV相關材料自製則呈現停滯不前，尚難擺脫自日本進口。
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