LITHOSCALE無光罩曝光系統實現量產化目標

EV Group 全新LITHOSCALE無光罩曝光設備。

EV Group(EVG)於SEMICON Taiwan推出全新LITHOSCALE無光罩曝光系統，這是第一個採用EVG革命性MLE(無光罩曝光)技術的產品。LITHOSCALE由EVG開發，為滿足需要高度靈活性與產品變化的市場應用的曝光微影需求，包括先進封裝，微機電，生物醫學和IC基板製造。LITHOSCALE結合高解析率和不受曝光場限制，強大的數字運算能力(可實現即時數據傳輸和即時曝光)以及高度可擴展的設計，成就第一個用於大批量產(HVM)的無光罩曝光系統，與市面上無光罩曝光系統相比，其生產率提高5倍以上。

新式的曝光需求

3D集成和異質整合驅動設計靈活性需求，晶片級和晶圓級設計能力需同時應用在後段微影製程。MEMS製造的複雜產品組合，在IC基板和生物醫學上，對更高程度的圖案靈活性和快速原型製作的需求正在成長。此外，對於高階封裝的後段微影系統，正面臨著非線性、高階變形與晶片位移的困擾，特別是在FOWLP晶圓上對晶片進行重構。

LITHOSCALE解決了對設計靈活性，高度可擴展性和生產率及低持有成本的需求，此無光罩技術消除了與光罩相關的耗材，可調變固態雷射曝光源，實現高性能與高穩定性。強大數字處理實現即時數據傳輸和即時曝光，系統能夠單獨處理，同時快速的全場定位和動態對準，為各尺寸和形狀的基板提供高擴展性。

產品細節資訊

LITHOSCALE強大的數位基礎架構可進行即時載入和執行光罩圖形變換，在整個基板表面上提供高解析度<2微米L/S與無接縫的圖型接合，其多曝光頭配備可實現最大化生產效率。LITHOSCALE提供超出倍縮光罩片尺寸的中介層曝光無接縫圖形，對需要高度複雜圖形布局的產品特別有用。

例如高階圖形處理、人工智慧、和高效能運算。LITHOSCALE還採用動態對準模式和具有自動聚焦功能的晶片級補償，使其適應基板材料和表面變化並保持最佳的對準效果。 此外，可適用於各種尺寸形狀的基板(直徑最大為300 mm的晶圓及最大為四分之一的面板屏幕的矩形基板)，以及不同材質的基板。EVG於SEMICON展示完整LITHOSCALE應用於晶圓級鍵合、黃光微影製程的解決方案。(EVG Booth No. L0316)