針對奈米級製程、未來在Hi-K dielectric與金屬匣極開發應用及材料使用台灣賽孚思科技展出最新研發成果與實測成績

台灣賽孚思科技(SAFC Hitech Taiwan)主要針對奈米級IC製程、未來在Hi-K dielectric以及金屬匣極的開發應用及材料使用，展出廠內研發成果及與設備商/國際大廠合作所得到的實測成績，並針對先進製程用料的研發成果及量產時程，於SEMICON TAIWAN展出期間與客戶做面對面的溝通。同時針對薄膜太陽能電池的ITO金屬層及日漸受重視的CIGS太陽能電池用料，展示廠內協同客戶研發製程及材料的成果。

台灣賽孚思科技的前身Epichem Group是歐洲第一家製造半導體化學材料Silane的廠商，供應半導體客戶，領先業界。隨後進入光電產業所需之三五族化學品製造領域Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)，成績裴然。經過25年的不斷研發創新，已成為世界知名品牌電子化學材料製造商。在光電產業LED所需之 MOCVD領域，更是從生產到銷售一貫化具領導性專業供應商；在半導體新製程方面，目前產品系列已擴展至半導體奈米製程之ALD- CVD Precursors。現今本集團在英國、美國、日本及台灣設有四座生產工廠，SAFC Hitech 在美國總部有總面積廣達七百公頃之製造工廠，客戶橫跨歐、美、亞三洲，已建立綿密之國際行銷網路。

台灣賽孚思科技總經理林正誠表示，該公司在化合物半導體產業擁有超過25年的研發製造及供應經驗，對台灣LED產業起飛與群聚成形及在地供應貢獻良多。2001年開始投入IC半導體先進CVD / ALD製程材料的研發，由2003年開始於市場獲致極大成功，除了DRAM產業使用的Hi-K材料 (Al, Hf, Zr ) 佔極高之市佔率外，45奈米以下邏輯IC所採用之金屬層 ( Hf, Ta, La)亦獲國外內大廠及設備廠採用。

台灣賽孚思科技在台灣提供的產品包括化合物半導體磊晶製程 ( TMGA / TEGA / TMIN / TMAL / CPMG / DEZN 等 )/ IC半導體先進製程 HI-K dielectric Al2O3, HfO2, ZrO2, STO, BST / METAL TiN, TaN, La系列材料)。在技術與服務項目則有: 高純度產品大量製造及純化，可高達40種金屬元素的ICP分析。針對不同製程與材料特性的鋼瓶設計，使材料的流量更穩定、使用效率更高; 鋼瓶內部殘料的偵測系統， 配合中央供應系統(LDS, Liquid Delivery System)的應用，與客戶設備端的介面溝通，可使材料隨時維持足量供應，減少停機更換的時間，拉長設備的稼動率及量產時間。台灣賽孚思科技展示攤位在世貿一館B區977號。