360°科技－浸潤式微影
- 宋丁儀
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過去乾式曝光顯影是在無塵室中，以空氣為媒介進行，透過光罩在晶圓上顯影；而浸潤式微影(immersion lithography)則是以水為透鏡，在晶圓與光源間注入純水，波長光束透過「水」為中介，會縮短成更短波長，得以刻出更精密晶片。就是這項發明，讓半導體的摩爾定律得以朝45奈米製程之後沿續。
台積電已採用193波長曝光設備，量產45奈米製程，這套設備之所以引人矚目，在於不同以往的「乾式」製程，而是「濕式」機台，也是浸潤式微影技術迄今，發展到第5代的最成熟浸潤式顯影設備。目前主要浸潤式顯影供應商一是日系的尼康(Nikon)，二是歐系荷蘭設備商ASML。(宋丁儀) 相關報導見7版
