三氟化氮

三氟化氮(NF3)在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，為一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中是一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性(對氧化矽和矽)。蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，能大量運用在晶圓製造及高能雷射上。

採用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其在厚度小於1.5微米的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性。隨著奈米技術的發展和電子工業大規模的發展技術，它的需求量將日益增加。

三氟化氮是低毒性物質，但是它能強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道黏膜並腐蝕組織。吸入高濃度三氟化氮可引起頭痛、嘔吐和腹瀉。長期吸入低濃度三氟化氮能損傷牙齒和骨骼。具有強氧化性，與還原劑能發生強烈反應，引起燃燒爆炸；並與易燃物(如苯)和有機物(如糖、纖維素等)接觸會發生劇烈反應，甚至引起燃燒。

2008年，聯合國(The United Nations)環境大會上，三氟化氮被列為溫室氣體，其製造溫室的能力極強，能在大氣中維持550年，其存儲熱量的能力是二氧化碳12,000~20,000倍，主要在生產液晶電視時被排放，目前排放量為每年4,000噸。(江凱狄)