先進製程對AMC微污染超敏感 化學濾網需求湧現
- 陳玉娟／新竹
在先進製程線寬線徑愈來愈窄之下，懸浮氣態污染物(AMC)對於製程良率的影響持續增加，因先進製程對於AMC微污染十分敏感，當半導體製程持續演進，將對AMC控制有更多的需求。濾能表示，AMC氣體分子的直徑約在0.3~1.5奈米，在5...
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