Canon新NIL系統成本優勢 有利晶片製造大眾化發展
- 茅堍／綜合外電
日本半導體製造設備業者Canon繼日前宣布推出，採奈米壓印微影（Nano Imprint Lithography；NIL）技術，可以用來製造先進5奈米節點邏輯晶片的系統設備FPA-1200NZ2C後，該公司執行長御手洗富士夫在接受媒體訪問時進一步表示，該新設備所...
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