科林研發全新低溫蝕刻 推進3D NAND效能 智慧應用 影音
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科林研發全新低溫蝕刻 推進3D NAND效能

  • 徐畇融綜合外電

科林研發(Lam Research)推出全新低溫蝕刻技術Lam Cryo 3.0,可用於容量更大、效能更強的3D NAND快閃記憶體製造,滿足因生成式AI(Generative AI)等愈來愈多元應用,而日漸高漲的市場需求。據I...

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