亞智科技力推CoPoS從圓轉方封裝製程帶動AI晶片產能躍進
隨著AI浪潮席捲,各界對AI晶片的需求持續高漲。惟在當今2.5D與3D封裝技術當中的CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate)主流架構下,受限於12吋晶圓承載的晶片數量過低,因此在可預見的未來幾年內,註定讓AI晶片維持物以稀為貴局面,難以滿足快速飆升的AI應用發展需求。
為扭轉AI晶片生產效能低、生產成本高的困局,業界開始寄望於面板級封裝(PLP)技術,以成就更大生產面積,大幅提高AI晶片產能。但不可諱言,在PLP落地實現過程中無論製程或材料,均有諸多亟待克服的難題。
著眼於此,身為面板級封裝PLP先行者、且位居RDL製程設備領導供應商的亞智科技Manz,提出CoPoS(Chip-on-Panel-on-Substrate)突破性的生產新概念,希冀透過長年鑽研PCB、IC載板、面板、封裝等製程工藝所淬鍊的深厚底蘊,形塑「CoWoS面板化」新解方,將晶片排列於方形基板取代圓形基板的封裝架構,以加速打通AI晶片量能提升的任督二脈。
面板級封裝,為突破AI晶片產能瓶頸的正解
亞智科技總經理林峻生表示, 先進封裝架構大致分三個結構,依序為晶片層、矽中介層(Silicon Interposer)、載板(IC Substrate)。因IC的腳位愈來愈小,線寬線距愈來愈窄,造成載板難以匹配,故需仰賴RDL增層技術重新分布腳位,讓線路變寬,以順利連結至PCB,顯見RDL細線路增層成為提升晶片封裝良率的要角。
CoWoS未來的難題是什麼? 隨著AI 晶片世代進化,單一AI晶片組封裝包覆的Die數量必然擴增,導致整個封裝尺寸愈來愈大。以主流品牌的AI晶片的CoW而論,其尺寸將從2023年的50x54mm,一路擴展至2026年66x68mm、2027年80x80mm;意謂12吋晶圓所能產出的AI晶片組數量,將從14顆遞減為11顆、4顆。由於CoW產能日益吃緊,亦將不斷墊高AI晶片組生產成本。
林峻生說,反觀面板級封裝尺寸,不論700mm x 700mm、600mm x 600mm,甚至最小的510mm x 515mm,生產面積都是12吋晶圓的數倍之多,加上方形基板更易實施晶片布局擺放,也就不難理解IC公司為何認定PLP是大勢所趨,連帶為CoPoS造就莫大機遇。
憑藉RDL研發量產經驗,突破PLP製程挑戰
面板化概念一是封裝之中介層從Wafer改為Panel型式生產,另一則是針對IC載板,由有機載板改為玻璃載板。隨著Intel於2023年宣佈將下一代載板轉為玻璃載體,主要透過玻璃通孔(TGV)製程技術形成導電層,通連晶片上下電路的基板。主要看重玻璃相較有機板不易翹曲、訊號不受干擾且散熱性佳。
Manz亞智一直以來投入RDL製程設備,目前也已開發玻璃基板製作導電層相關設備,迄今陸續開發清洗、顯影、蝕刻、剝膜、電鍍等完整濕製程設備,足以挾著豐富經驗值,協助產業界縮短學習曲線,加速達成玻璃載板量產目標。
從圓轉方的封裝製程,不論是材料及設備都需投入研發量能,林峻生認為由於Panel面積大於Wafer,製程大相徑庭,CoPoS製程的概念無疑是解決產能問題的最佳解決方案之一;然克服翹曲、均勻度等問題以達到高解析的導電線圖案,將是對良率的一大挑戰。
上述挑戰,反而凸顯亞智的優勢與機會點。因為亞智投入面板級封裝製程設備甚久,已累積豐富的量產方案交付實績,亦深知相關客戶之翹曲、均勻度議題,所以與電鍍液、玻璃等材料供應夥伴緊密合作,以快速協助客戶解決相關生產議題,目前Manz亞智在扇出型面板級封裝FOPLP以及玻璃通孔TGV皆建置關鍵設備模組,為客戶提供試量產前驗證。
展望下一步,亞智將持續研發,力求讓RDL佈線結構不斷突破,以滿足客戶對AI晶片線寬線距極小化的嚴格要求,從10µm 降至5µm,甚至朝2µm、1µm邁進,稱職扮演先進製程的助攻角色。