別鬧了! 8奈米
- 林育中／專欄
9月14日中央社發布新聞，說中國工信部發了一條通知，言明中國大陸在半導體製程設備的進展。其中一項是「氟化氬光刻機」（DUV曝光機），其核心技術指標是「晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≦65nm，套刻≦8nm」。根據這個...
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林育中
現為DIGITIMES顧問，1988年獲物理學博士學位，任教於中央大學，後轉往科技產業發展。曾任茂德科技董事及副總、普天茂德科技總經理、康帝科技總經理等職位。曾於 Taiwan Semicon 任諮詢委員，主持黃光論壇。2001~2002 獲選為台灣半導體產業協會監事、監事長。
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