三星High-NA EUV拍板裝機 1奈米級商用化競爭升溫
- 范維君／綜合報導
三星電子（Samsung Electronics）傳將於2025年初，引進高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備。High-NA EUV為2奈米以下先進製程所需設備，由荷蘭ASML全球獨家供應。南韓業界預期，三星也將正式啟動1奈米級的商用化研...
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