三星High-NA EUV拍板裝機 1奈米級商用化競爭升溫 智慧應用 影音
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貿澤電子

三星High-NA EUV拍板裝機 1奈米級商用化競爭升溫

  • 范維君綜合報導

三星電子(Samsung Electronics)傳將於2025年初,引進高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)微影設備。High-NA EUV為2奈米以下先進製程所需設備,由荷蘭ASML全球獨家供應。南韓業界預期,三星也將正式啟動1奈米級的商用化研...

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