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Canon新NIL系統成本優勢 有利晶片製造大眾化發展

  • 茅堍綜合外電

日本半導體製造設備業者Canon繼日前宣布推出,採奈米壓印微影(Nano Imprint Lithography;NIL)技術,可以用來製造先進5奈米節點邏輯晶片的系統設備FPA-1200NZ2C後,該公司執行長御手洗富士夫在接受媒體訪問時進一步表示,該新設備所...

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