專注創新、持續發展 盛美上海清洗技術備受市場肯定

盛美上海PECVD設備。盛美上海

半導體製程快速進化，製造業者對清洗、電鍍等設備的效能要求快速提升。在此領域握有多項專利的盛美上海，2023年業績進入高速成長期，連續拿下兩張重要訂單，此成績也反映在財務報表上，2023年上半的營業收入達16.10億元（以下幣值均為人民幣），相比2022年同期的10.96億元，成長46.94%，此外該公司為因應市場成長所興建的上海研發與製造中心，也於2023年初舉辦封頂儀式，未來將以穩定產能作為客戶的後盾。

研發之路有成 兩筆訂單彰顯技術實力

盛美上海的Ultra C SiC碳化矽襯底清洗設備訂單來自中國碳化矽襯底製造商，客戶在使用此設備時，可透過盛美上海自主研發的空間交變相位移（SAPS）清洗技術，在確保不損傷元件的前提下，得到更全面的清洗效果。

盛美上海2023年的另一筆重量級訂單，則來自歐洲一家全球性半導體製造商下訂的單片SAPS兆聲波清洗設備。這款設備搭載了盛美自主研發的SAPS （空間交變相位移）技術，相較於傳統兆聲波清洗技術，SAPS技術的效率更高，不會造成額外的材料損耗，同時還可減少晶圓表面損傷，清洗效果也更徹底、全面。

盛美上海在中國的業務規模已逐步擴大中，美國半導體製造客戶的評估也在同步進行中。SAPS技術已開始吸引歐洲客戶目光，這次獲得單片SAPS兆聲波清洗設備的歐洲首筆訂單，是對盛美上海技術能量以及銷售團隊努力的有力證明。這筆訂單將是開啟歐洲市場起點，未來將與當地重量級客戶有更多合作機會。

盛美上海在2005年成立後，就大力投入研發，先後推出單片兆聲波清洗、背面清洗、單晶圓槽式組合清洗、刷片、槽式清洗、單片高溫硫酸清洗、邊緣蝕刻清洗、前道銅互連及後道先進封装電鍍、立式爐管等設備。2022年再推出新型熱原子層沉積立式爐、前道塗膠顯影設備和電漿體增強化學氣相沉積設備，另有多款相關新技術處在研發之中。

其中，2022年底發布的兩款新產品前道塗膠顯影設備和電漿體增強化學氣相沉積設備更是盛美上海在研發創新道路上的里程碑。

前道塗膠顯影設備可應用於300毫米晶圓製程，可提供均勻的下降氣流、高速穩定的機械手及強大的軟體系統，從而滿足客戶的特定需求。該設備支援包括i-line、KrF和ArF系統在內的各種微影製程，可確保滿足製程要求的同時，讓晶圓在微影設備中曝光前後的塗膠和顯影步驟得到優化。

電漿體增強化學氣相沉積設備配置了自主智慧財產權的腔體、氣體分配裝置和卡盤設計，能夠提供更好的薄膜均勻性，更小的薄膜應力和更少的顆粒特性。該設備採用單腔體模組化設計，有兩種配置：一種是可以配置一至三腔體模組，適合極薄膜層或快速製程步驟；另一種是可以配置四至五腔體模組，在優化產能的同時，支持厚膜沉積以及更長的製程時間。以上兩種配置中，每個腔體都安裝有多個加熱卡盤，以優化製程控制並提高產能。 

盛美上海在半導體設備領域已有所成，正在持續擴大市佔率。根據Gartner2022年資料顯示，盛美上海的清洗設備市佔率達到5%，排名全球第五；電鍍設備市佔率達到6%，排名全球第三。在中國設備商中，盛美上海位列第三，是半導體設備龍頭企業。

深化技術能量 交出亮眼成績單

對於掌握即將而來的市場成長商機，盛美上海之前就著手興建研發與製造中心，此一位於上海臨港地區的廠房在2023年初舉行盛大封頂儀式。董事長王暉透露，該建築面積達13.8萬平方公尺，規劃兩座研發樓、兩座高層廠房以及一座輔助廠房。為加快產品製程測試驗證和改進升級測試，該項目特地配備與IC生產線同等級的研發測試潔淨室。此中心是盛美上海全球化發展戰略的一部分，落成後將大幅提升該公司的研發與生產能力。

在2023可視化半年報中，可看到盛美上海業績再創新高，除了前文所述業績再創新高外，資產規模也持續擴大，來到90.02億元，比2022年同期成長10.11%。在此同時，盛美上海也一秉初衷擴大研發投資，本期投入的研發資金高達2.4億元，與2022年同期相較成長28.64%，研發團隊人員高達645人，佔公司總員工數將近50%。

董事長王暉表示，盛美上海希望透過技術差異化、產品平台化、客戶全球化不斷開疆辟土，目前盛美上海已經處於國際化加速階段。對於未來規劃，他認為半導體在各個領域的應用已漸深、漸廣，在此態勢下，半導體設備需求也會愈來愈大，面對此趨勢，盛美上海除了持續創新技術，也將強化服務能量，滿足全球各處客戶需求，為半導體產業的發展做出積極貢獻，目標是躋身全球積體電路設備企業第一梯隊。