攀時展出Molybdennum Rotatable Sputtering Targets

隨著台灣半導體、太陽能、LCD產業蓬勃發展，全球靶材大廠紛紛來台灣開拓商機。靶材(Target)是高科技產業中濺射鍍膜所用之材料，應用範圍廣泛。

在2009台北國際光電週期間，奧地利商攀時(PLANSEE)展出Molybdenum Rotatable Sputtering Target、MoNa target、MoTa target…等多款符合不同機台的靶材，適用於面板產業。Molybdenum Rotatable Sputtering Target為一體式柱狀靶，不同於一般分段式，長度可達4,000mm，直徑與厚度均可客製化。攀時Rotatable Target針對面板與太陽能廠研發，運作時利用靶材不斷地轉動，大幅提升靶材使用率，達到現行平靶2倍以上。

MoNa target可控制靶材中鈉含量，而非受限於一般玻璃中既有含量，大幅提升太陽能面板(CIGS Panel)轉換效能。MoTa target則適用於TFT-LCD和觸控面板，抗腐蝕性比純鉬更高。攀時所生產的靶材從平面到柱狀，依照客戶需求提供各種形狀大小之靶材，有興趣者可至C710參觀。