Intel 14A製程率先採用 一窺ASML首台High-NA EUV技術細節
- 陳玉娟／新竹
英特爾近日宣佈位於美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾研發基地中，研發人員已完成業界首台商用高數值孔徑極紫外光微影設備（High NA EUV）組裝。此台由ASML供應的TWINSCAN EXE:5000 ...
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