永光提供觸控、AMOLED面板關鍵光阻技術
成立於1972年的永光化學集團,1996年開始發展電子化學事業,歷經17年創新研發、不間斷的建立自主技術,目前已能產製LCD、LED及IC產業需要的光阻劑、顯影液以及多項製程用的研磨液、拋光液,清洗液等關鍵化學品。
2013年台灣平面顯示器展期間,永光化學在台北南港展覽館I區816攤位,展出觸控面板光阻劑、低溫多晶矽(LTPS)TFT-LCD光阻劑、彩色濾光片(CF)彩色光阻劑、軟性基材用的覆晶薄膜封裝(COF)光阻劑、主動式有機發光二極體(AMOLED)光阻劑以及LCD、LED用顯影液、晶片拋光液等應用在光電領域的多項產品,以拓展商機。
智慧型手機如雨後春筍般的相繼推出,DIGITIMES Research預估2013年全球觸控面板出貨量將為17.5億片,較2012年成長17.2%。功能強大的投射電容觸控技術,實現了多點觸控功能。永光化學總經理陳偉望表示,隨著投射電容觸控技術的演進,永光持續地與新技術同步,不斷推出透明、絕緣度更好、附著性更佳的產品來因應,其中永光EOC系列透明絕緣光阻,可以說是投射電容觸控面板最關鍵的材料之一。
EOC 200系列光阻劑,使用在觸控面板絕緣層與保護層。具有高硬度(4H)、良好金屬附著性(大於4B)、高穿透率(膜厚1.5μm,穿透率大於95%)等特性。可以搭配無機鹼型(KOH type)顯影液與緩衝型(Buffer type)顯影液使用,也可搭配不含金屬離子的TMAH顯影液使用。EOC 270系列光阻劑,適用於一片玻璃式(OGS)觸控製程之觸控面板製造。有良好的抗氫氟酸(HF)蝕刻能力並可剝除。且於化學強化玻璃或各種金屬基材上有優良的附著力(>4B)。
另外,陳偉望補充提到,為了減少觸控面板的厚度,永光電化事業針對此技術需求,開發了EK系列的黑色光阻產品,黑色EK520、EK570光阻劑,有高敏感度、良好黏著性(>4B)、高表面電阻及優良耐熱與耐化學的特性;適用於OGS製程之觸控面板製造。
至今觸控面板(Touch Panel)呈現OGS、On-cell、In-cell三大主流技術趨勢,陳偉望表示,永光展望LCD發展趨勢將聚焦於OGS製程之關鍵化學品開發,未來將再提升BM黑色光阻劑EK 520 & 570黃光製程特性,持續開發及鑽研>300°C耐高溫製程且具有高表面電阻特性之BM黑色光阻劑。
陳偉望表示,高解析度、高色彩飽和度已逐漸成為平面顯示器的基本需求,而AMOLED顯示技術應用在手機及平板電腦的比例也明顯增加;因應面板的精良化,永光對應的提供相關光阻劑,包括EPL 388光阻劑以及EPL 356及ENPI 300光阻劑。
EPL 388光阻劑應用在LTPS的TFT-LCD製程,具備高解析度、高敏感度,有效降低曝光時間增加產能,在面板製程中與顯影液的相容性高,有效解決製程殘留問題。
EPL 356光阻劑應用在AMOLED面板製程,在ITO與金屬線路的圖形化,也可用在絕緣層(insulator);具有高色彩飽和度、高解析度、耐蝕刻性佳等優點。ENPI 300光阻劑,應用在間隔層(Pillar or Rib),具有高耐熱性佳、光阻Overhang角度佳等優點。
Flexible方面,永光專利新產品FSR 110 & 112為正型光阻劑,主要應用在可撓性顯示器的產品,具高解析度、曝光能量低、可撓曲性、塗佈性及良好附著性、及1%碳酸鈉系統顯影等特性;將推廣至面板驅動IC的COF & TAPE製程應用,也可塗佈在軟性基材上,將是高階智慧型手機、平板電腦朝向輕、薄、短、小及精緻化發展趨勢中,不可或缺之關鍵及前瞻性製程材料。
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