Brewer Science將發表DSA潛力的新材料

布魯爾科技(Brewer Science In.)資深科學研究員葛瑞羅博士(Dr. Douglas Guerrero)，將在2014年9月5日(星期五)台灣半導體展中的微影光罩技術論壇(Litho/Mask Technology Symposium)擔任主講嘉賓。在本次研討會中，葛瑞羅博士將探討「發揮定向自組裝技術(Directed self-assembly；DSA)潛力的新材料」，同時，葛瑞羅博士也將會在此場研討會中分享關於在半導體製程中導入DSA的進程評估。

布魯爾科技黃光事業處處長尤瑞達(Darron Jurajda)強調：「由於Extreme Ultraviolet(EUV)發展的持續延宕，研發設計出能延伸現有黃光技術的材料或製程顯得更為重要。布魯爾科技一直以來都是站在這些尖端科技的最前線。當然，本公司也會在這次半導體展中發表最新的DSA材料與技術。」

根據葛瑞羅博士的說法，「雖然DSA的發展潛力已經在半導體製程中被推演論證過，但是在這項技術全然變成主流技術之前，簡化與採用現今的標準製程也是不可或缺的一環。布魯爾科技一直致力於發展能簡化DSA製程的材料與方法。本公司的研發團隊正專注於創造能有多功能與多用途的材料來達成這個目標。」

想了解更多關於DSA材料的最新技術，敬請參加布魯爾科技「New Materials for Extending DSA Capabilities」Litho/Mask Technology Symposium 2014。