科林開發EUV光阻劑薄膜技術 可望獲韓半導體廠青睞
- 林瑜淳／綜合外電
美國科林研發(Lam Research)開發出利用化學反應製造極紫外光(EUV)光阻劑薄膜的新技術，比在晶圓上塗抹液態光阻劑成本更低，但有更高解析力(resolving power)。液態EUV光阻劑及塗佈市場以日本業者為主，科林的新技術可望獲得韓廠青睞。
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