360°科技－i-Line

i-Line技術是將電路圖案轉印到矽晶圓的光源，其光波波長為365奈米，設備業主多利用i-Line轉印小於250奈米的電路結構 (1奈米等於百萬分之一毫米)。相較於ArF波長193奈米、KrF波長248奈米這類波長能轉印40奈米電路結構的微顯影機器設備，i-line則被視為適用於較成熟的製程技術。因為根據光學原理，波長愈短所能刻繪晶片製程愈細，例如193奈米的ArF若採用浸潤式顯影則已可達到45奈米甚至40奈米。

　一般而言，晶片的光罩層數最多達30或40層，因此晶片製造商生產晶片時，通常會依據不同層所需的製程技術同時用到這3種設備。ArF和KrF系統多半用來處理最小和中等尺寸的晶片電路結構，至於較大和非關鍵性的電路結構則會使用i-Line做為微影光源，以區隔設備適合的製程節點，並節省設備資源。(宋丁儀)相關報導見7版