英特爾High-NA EUV設備就緒 搶快採用避免重蹈覆轍？
- 蔡靜珊／綜合報導
英特爾晶圓代工（Intel Foundry）率業界之先，完成ASML首代高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備Twinscan EXE:5000組裝，接下來會進行校準並打出「第一道光」，預計2026~2027年投產Intel 14A（1.4奈米...
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