放慢導入High NA EUV Rapidus效法台積穩紮穩打
- 梁燕蕙／綜合報導
ASML日前在IMEC的ITF World 2024大會上宣布，其首台高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）曝光機，現已創下新的晶片製造密度紀錄，超越了2個月前創下的數值。ASML前總裁兼技術長Martin van den ...
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