日本首部EUV設備落腳北海道 Rapidus 12月開始接受設備
- 江仁傑／綜合報導
目標在日本量產2奈米晶片的半導體廠Rapidus，即將在興建中的工廠內安裝極紫外線（EUV）曝光機，預計於2024年12月中旬抵達日本北海道新千歲機場。EUV曝光機將分拆成多批由大型貨機運送。日經新聞（Nikkei）報導，這將是EU...
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