上海微電子展出SMEE 300系列光刻機
致力於投影光刻機研發、生產、銷售與服務的上海微電子裝備有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment;SMEE),將於6/17至19來台參加2014台北國際光電週暨LED照明展,展出用於封裝以及LED產業光刻機設備。
此次,將展出SSB300系列步進投影光刻機,該系列機台適用於2?6英吋基底LED的PSS和電極的光刻工藝。可以應對大翹曲藍寶石基底的曝光,能夠實現2?6英吋基底的自動切換,能夠在生產中即時監測基底面型,保證客戶在使用過程中不再受吸盤污染的困擾。
採用高性能縮減式物鏡確保亞微米解析度和高曝光均勻性、精密特製運動台系統實現高精度的圖形拼接與精確的套刻。具有低使用成本、高曝光均勻性、高產能等特點,可滿足LED生產線的各種使用要求。除此之外,該系列機台還能夠適應矽和SiC等多種基底的曝光、可選背面對準配置,將機台的應用擴展至MEMS領域。
上海微電子裝備有限公司成立於2002年,公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、3D-TSV、TFT-OLED、LED、Power Devices等製造領域。上海微電子裝備有限公司致力於以極致服務、創造高階產品、創造客戶卓越價值,全方位為顧客提供優質產品和技術服務。
上海微電子裝備有限公司已通過ISO27001資訊安全、ISO9000品質管制和ISO14001環境管理等體系的國際認證,力求為客戶提供持續 、穩定、高品質的產品和服務,並履行一個優秀的高科技企業的社會責任。
目前已建立了一整套與高科技企業相適應的智慧財產權管理體系與機制,先後被評為「上海市專利工作和智慧財產權示範企業」、「全國企事業智慧財產權示範創建單位」。
歡迎業界先進6/17至19蒞臨南港展覽館M951攤位參觀,或上網查詢相關產品服務:http://www.smee.com.cn/ 。
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