360°科技：步進曝光機
- 宋丁儀
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半導體步進曝光機(stepper)是目前半導體製程當中最前段也是最關鍵的製程，由於IC設計客戶必須將其設計圖(layout)進行曝光顯影，因此透過步進曝光機微顯影掃描設備的曝光照射在光罩(mask)上，而光罩變成為之後晶圓加工的參考藍圖和依據，因此微顯影技術與設備往往是影響晶圓加工過程中最前段的關鍵製程。
由於此製程不容許其他的光害干擾，因此在微顯影設備區，室內光源一律採不影響曝光的黃光，也因此區被稱為黃光區。目前ASML是微顯影掃描設備全球最大供應商。(宋丁儀)
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