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USHIO展出次世代封裝製程曝光設備

  • 吳冠儀台北

USHIO電機次世代PACKAGING製程用曝光設備STEPPER,於SEMICON TAIWAN 2015展出。
USHIO電機次世代PACKAGING製程用曝光設備STEPPER,於SEMICON TAIWAN 2015展出。

USHIO電機於SEMICON Taiwan 2015中展出「次世代PACKAGING SOLUTION」為主題,提供産業微影製程解決方案。

USHIO電機株式會社,於2015年9月2日(三)~4日(五)、於南港展覽館舉辦之SEMICON TAIWAN 2015(攤位號碼:748),展出2.5D/2.1D SILICON INTERPOSER製程用「UX7-SQUARE 70」之海報,現場並會提供次世代PACKAGING SOLUTION」相關資訊,提供産業微影製程最佳解決方案。

SILICON貫通電極(TSV)運用在三次元封裝(3D)與2.5D/2.1D,因為此技術可以大幅提升配線效率,因而受到相當矚目。也因此,運用於此技術之成本近來也廣泛被業界討論。針對此趨勢,USHIO對於SILICON INTERPOSER製程,提出「UX7-SQUARE 70」設備提案,使用大面積一次曝光與高産速,並可以達到L/S 2/2um(線寬),藉以實現降低生産成本之目標。

除了SILICON INTERPOSER之外,曝光面積達70mm2之大面積2.5D/2.1D ORGANIC INTERPOSER用之「SQUARE 70」與使用於MEMS,POWER DEVICE與LED之「UX-4 SERIES」也會一併展出相關海報。

近年來,由於智慧型手機與平板電腦的需求大增,高密度配線之次世代PACKAGING因而受到矚目,USHIO電機身為PACKAGING之市場重要設備廠商身分,於美國喬治亞工科大學(GEORGIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY)內之「3D SYSTEMS、PACKAGING、RESEARCH CENTER」,USHIO電機有提供一台GLASS基板2.5D INTERPOSER用之投影式ALIGNER給其使用,並且派遣技術人員給予必要協助,以期達成2.1D/2.5D INTERPOSER所需要之L/S 1~5um之解析能力需求。

USHIO電機對於先端PACKAGING製程有相當技術能力,可以提供給業界當成製程解決方案,更多詳細資訊都歡迎至SEMICON TAIWAN 2015展場,攤位號碼:748,蒞臨參觀指教。


議題精選-2015 SEMICON