奇鼎科技掌握高階製程加速10奈米實現

高階製程環控加速10奈米實現

由於10奈米製程預計較16奈米製程毛利率提升10%，吸引全球目光，因此為加速下個世代產品的演進，全球前五大晶圓代工廠皆視2016年為決戰10奈米之巔，紛紛為了加速10奈米製程的實現而各別投入資源及方法。過去，半導體製程一直遵循摩爾定律發展，也就是約每隔 2 年推出新製程。然而，隨著10奈米的屏障難以輕易跨越，此階段已出現世代精進的落後，各晶圓製造大廠無不更積極了解產品精進相關方法，此範圍包括晶圓產品及生產環境控制。當晶圓製造的高階演進不再只討論晶圓本身，更有趣的是如何藉由精準控制生產環境，了解生產環節與晶圓品質與技術演進的關係；生產環境中的「空氣」內包含何種氣狀分子汙染物，成了不可不知的重要問題。

奇鼎科技協助台灣晶圓代工第一大廠多年來探討製程環境內空氣汙染物與生產品質的關係，例如IPA、Acetone在晶圓製造時造成阻值增加，Contact Layer阻值飄移導致Contact Window變差，並影響銅製程良率明顯下降；或是高沸點VOC沉積在光罩上，造成顯影時重複出現的Mask Defect，影響曝光製程結果及良率。這類製程環境中的微汙染物，可藉由奇鼎科技獨家專利的遠端氣體取樣系統形成的整合產品IAE-1000 (In-line AMC Monitoring)，連結多個站至分析儀器整合站，24小時連續觀測不同製程環境內的化學物種，以實驗室等級ppbv的精細度來執行製程環境監控的標準，達到完整了解製程環境，進而做到精準控制的決策。IAE-1000產出連續不間斷的多點分析資料，集成大數據的資料架構，可提供品質、生產、研發等單位環境與產品連結的關鍵因素。除了空氣側的精準分析，IAE-903/905系統提供了液體偵測微量金屬物質的多點線上方案，針對清洗液的深度分析進而完整掌控接觸產品的環境物質。

2015年的SEMICON Taiwan半導體大展逢20週年盛大展出，奇鼎科技在南港展覽館一樓展館3042攤位提供許多半導體及高階面板製程的為環境監測、控制、廠務AMC節能控制等整體方案，將實機展出有機氣體線上分析系統，演示氣狀分子汙染物的多點線上連續偵測概念，將製程環境與先進製程品質關係做準確連結。展出現場並備有關空氣品質及健康小物的精美禮品，邀請企業先進前來參觀指教。